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WDK2010-Z

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用途:適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導(dǎo)體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導(dǎo)線框架等產(chǎn)品的檢查觀察.也適用于經(jīng)過磨拋、化學(xué)處理的工件表面的金相組織結(jié)構(gòu),幾何形狀進(jìn)行顯微觀測。并且有三維的測量功能,其解析率達(dá)0.0005mm。適用于集成電路,半導(dǎo)體芯片,光伏電池,光學(xué)材料等行業(yè)。


上一個(gè): BJ-X
下一個(gè): HV-10 / HV-10Z